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美國ISS是jin有的能同時提供時域TCSPC和數(shù)字頻域FastFLIM™兩種熒光壽命成像技術解決方案的公司，其推出的FLIM熒光壽命成像及熒光波動光譜升級模塊，可以讓您現(xiàn)有的共聚焦顯微鏡擁有FLIM及FCS測試功能，可適配各種顯微鏡。

ELIMISSION Z118快速LIBS光譜分析系統(tǒng)是目前市場上較常用的臺式LISB元素分析儀。*的平臺使其能夠滿足客戶對再現(xiàn)性、堅固性、jing確性、準確性和靈敏度的要求。它能夠直接分析固體樣品（例如鐵、鋁、巖石等），而不用機械加工樣品制備，以去除樣品的氧化層（如火花-OES的情況）。LIBS光譜分析是目前為止被認為wei一可以做在線分析的元素分析技術；

ELEMISSION MISSION激光誘導擊穿光譜生產線使用幾種高新技術以達到高吞吐量的化學分析過程。ELEMISSION MISSION LIBS激光誘導擊穿光譜快速產線分析系統(tǒng)符合精度、性能、吞吐流量和分析速度的*的市場標準。產品線能夠通過激光誘導擊穿光譜（LIBS）實時進行快速元素分析，可用到回收，礦物篩選和土壤分析等。

ISS HPCell 光譜儀通用高壓樣品倉系統(tǒng)包含壓力樣品倉，靜壓泵，控制系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)采集模塊。整套系統(tǒng)可直接裝配于ISS公司的所有熒光光譜測試系統(tǒng)中，也可作為獨立附件適配于其他品牌的光譜儀系統(tǒng)。

半導體技術的一個重要目標是減少所有構成半導體器件中，晶體和非晶層中固有的和因生產工藝引起的缺陷。雜質、晶界、晶面等引起的缺陷會導致陷阱的產生，陷阱可以俘獲自由電子和空穴。即使?jié)舛确浅５停葳逡材躩i大地改變半導體器件的性能。數(shù)字化深能級瞬態(tài)譜儀DLTS是現(xiàn)在一種非常通用的技術，可用于測定與陷阱相關的幾乎所有參數(shù)，包括密度、熱界面（熱發(fā)射率）、能級和空間剖面等。